光刻机（胶）板块2月28日涨0.72%，华懋科技领涨，主力资金净流出2.04亿元 环球观焦点

(资料图)

2月28日光刻机（胶）板块较上一交易日上涨0.72%，华懋科技领涨。当日上证指数报收于3279.61，上涨0.66%。深证成指报收于11783.8，上涨0.7%。光刻机（胶）板块个股涨跌见下表：

从资金流向上来看，当日光刻机（胶）板块主力资金净流出2.04亿元，游资资金净流入2665.09万元，散户资金净流入1.78亿元。光刻机（胶）板块个股资金流向见下表：

北向资金方面，当日光刻机（胶）板块北向资金持股市值为72.01亿元，增持0.12亿元。其中增持最多的是上海电气，增持了0.18亿元。减持持最多的是大族激光，减持了0.15亿元。光刻机（胶）板块北向资金持股变动明细见下表：

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